Molybdeeni Sputtering Targe
Molybdeeni Sputtering Targe yksityiskohtaiset tiedot
Molybdeeni Sputtering Targe
Laadukas mukautettu molybdeeni pyörivä kohde Molybdeeni kohde
Korkean puhtauden molybdeenin kohdekäyttö röntgenputkille
Puhdas molybdeeni ja sillä on korkeampi rekristallisaatiolämpötila ja parempi ryömimiskestävyys.
Sitä käytetään vaativissa mekaanisissa kuormituksissa vaativissa korkean lämpötilan sovelluksissa, esimerkiksi taontatyökaluissa tai röntgenputkien pyörivissä anodeissa.
Suositeltu käyttölämpötila on 700–1400 °C.
| Kohde | Korkean puhtauden molybdeenin kohdekäyttö röntgenputkille |
| Aste | TZM 364 |
| Tiheys | 10,2 g/cm3 |
| Sulaus Piste | 2610 Centigrade |
| Lämpötilan käyttö | 2000 Enintään sata senttiä. |
| Materiaali | Ti, Zr, Mo seos |
| Koko | Piirustuksen mukaan |
| MOQ | 1 kpl |
| Alkuperä | Kiina |
| Merkki | ZHUO HANG XIN |
Ominaisuus
1. Matala lämpölaajennuskyky
2. Korkea käyttölämpötila
3. Hyvä korroosionkestävyys
4. Korkea lujuus
5. Alhainen sähkövastus
6. Valmistus asiakkaan pyynnöstä
Sovellus
1.Käytetään pääasiassa elektroniikkateollisuudessa, kuten interrated piiri, tietojen tallennus, LCD, lasertallennus, sähköinen ohjauslaite jne.
2. Lasinpinnoitusteollisuus
3. Voidaan käyttää myös kulutusta kestävässä materiaalissa, korkean lämpötilan kulumisen ja korroosionkestävyyden teollisuudessa jne.
Molybdeenin pyörivillä kohteilla on seuraavat parametrit
Elementti
Mo
Puhtaus
≥ 99,95% (3N5)
Tyypillinen näytteen mitat
φ153mm×φ123mm×1114mm
Tiheys
10,15 g/cm3
Kovuus
HV5:246–253
Viljan koko
35 μm
Ulkonäkö
Ra≤0,4 μm
Epäpuhtauspitoisuus
Pb
≤5ppm
C
≤20 ppm
(jauhe)
Cd
≤5ppm
Sb
≤10 ppm
Si
≤10 ppm
Ni
≤30 ppm
Cu
≤10 ppm
P
≤5ppm
Mg
≤10 ppm
N
≤50 ppm
Bi
≤5ppm
Al
≤15 ppm
Ca
≤15 ppm
N
≤ppm
Korkean puhtauden molybdeenin kohdekäyttö röntgenputkille
